日期:2014-11-02 02:06
在微观尺度上控制其结构的目标实现。例如，在高真空条件下的磁控溅射、分子束外延、纳米粒子组合、调制、胶体化学方法等，使材料研究、薄膜制备设备对设计加以验证，进而扩大到工业化生产，实现具有自主知识产权的技术研发与生产全过程。
按照现行*规定，采用磁控溅射法生产的Low-E镀膜玻璃辐射率e应小于0。15。目前市场上单银Low-E镀膜玻璃的e在0。07~0。12，而双银Low-E镀膜玻璃的辐射率e则能够控制在0。05以下。Low-E镀膜玻璃的辐射率e与膜层材料的电导率s有如下关系：
从上面关系式中，可以看出膜层材料的辐射率与膜层电