探究离线双银Low-E镀膜玻璃发展史
日期:2014-11-02 02:06
所需的本底真空,一般在(1~5)10-8 Pa。在真空环境中向靶材(阴极)下充入工艺气体氩气(Ar),氩气在外加电场(由直流或交流电源产生)作用下发生电离生成氩离子(Ar+),同时在电场E的作用下,氩离子加速飞向阴极靶并以高能量轰击靶表面,使靶材产生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在玻璃基片上形成薄膜。同时被溅射出的二次电子在阴极暗区被加速,在飞向基片的过程中,落入设定的正交电磁场的电子阱中,直接被磁场的洛伦兹力束缚,使其在磁场B的洛伦兹力作用下,以旋轮线和螺旋线的复合形式在靶表面附近作回旋运动。电
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