用电介质膜加以保护.常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等.金属减反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽；缺点是光损大,反射率不可能很高.为了使金属减反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质减反射膜.需要指出的是,金属电介质射膜增加了某一波长（或者某一波区）的反射率,却破坏了金属膜中性反射的特点.全电介质减反射膜是建立在多光束干涉基础上的.与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射率高于基体材料的薄膜,就可以增加光学表面的反射率.*简单的多层反射是由